ダイヤモンド研磨剤のケメットジャパン｜難削材も精密研磨が可能

ナノアルミナ研磨材（ＣＭＰ)を使用したClasSiC™CMPスラリーは、研磨レートと平坦化性能を大幅に向上させ、SiCウェーハ上で優れた表面仕上げを実現します。

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GaiN CMPスラリーは、表面粗さを2A以下（AFMで測定）を実現することにより、ウェハ表面の傷やピッチングを完全に排除します。 高い研磨レートが特徴で、GaiN 200 CMPスラリーは一般的なスラリーよりも4倍速く研磨でき、その結果、表面へのダメージが少なくなります。

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